《集成电路布图设计保护条例》已经2001年3月28日国务院第36次常务会议通过,现予公布,自2001年10月1日起施行。


  集成电路布图设计保护条例


  第一条 为了保护集成电路布图设计专有权,鼓励集成电路技术的创新,促进科学技术的发展,制定本条例。


商业秘密(图1)


  第二条 本条例下列用语的含义:

  (一)集成电路,是指半导体集成电路,即以半导体材料为基片,将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上,以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品;

  (二)集成电路布图设计(以下简称布图设计),是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置;

  (三)布图设计权利人,是指依照本条例的规定,对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织;

  (四)复制,是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为;

  (五)商业利用,是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。

  第三条 中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。

  外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权。

  外国人创作的布图设计,其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的,依照本条例享有布图设计专有权。

  第四条 受保护的布图设计应当具有独创性,即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。

  受保护的由常规设计组成的布图设计,其组合作为整体应当符合前款规定的条件。

  第五条 本条例对布图设计的保护,不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。

  第六条 国务院知识产权行政部门依照本条例的规定,负责布图设计专有权的有关管理工作。




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